二手 NANOMETRICS 8000XSE #9389858 待售

NANOMETRICS 8000XSE Mask and Wafer Inspection Equipment是一个成本效益高、精度高的平台，设计用于半导体Mask和Wafer的检查和分析。它配备了尖端的光谱域成像技术，以前只能在昂贵得多的系统上使用。这样就可以对掩模和晶片表面（如颗粒、划痕和结构异常等）上的线条和空间缺陷进行高分辨率的实时成像。NANOMETRICS 8000 XSE专为生产和研发需求而设计。它配备了功能强大、易于使用的软件,用于快速、分析和报告。它还提供了一系列先进的图像校正功能,能够准确分析图像,尽管在整个检查过程中存在照明异常或其他异常。8000XSE具有双轨配置,可同时扫描掩模和晶片表面。两组真空卡盘，一组用于掩模，一组用于晶片，确保图像精确对齐，以便对掩模和晶片条件进行精确比较。该系统的光学单元包含一个偏振光束扫描仪，以三个波长照亮物体表面。有两个全色探测器，一个VGA和一个CCD，用于成像。每个检测器提供不同的分辨率，可以组合起来提供最高分辨率的图像。机器为确保高精度而使用的计算和算法使用与GPU协处理器集成的基于FPGA的图像处理器执行。这样可以确保快速的处理速度和高精度的图像分析结果。该工具还具有符合人体工程学、用户友好的设计,具有轻巧、紧凑的外形尺寸和用户可更换的滤轮,便于校准。8000 XSE电池供电,包装在一个小型的可移动机箱中。总体而言,NANOMETRICS 8000XSE Mask和Wafer Inspection Asset是满足生产和研发需求的高级、高度精确的解决方桉。它能够以轻巧易用的封装提供精确、实时的蒙版和晶圆表面图像。