二手 NANOMETRICS Caliper Mosaic #9281789 待售
网址复制成功！
单击可缩放
NANOMETRICS Caliper Mosaic是一种自动化的掩模和晶圆检查设备,旨在对低至45 nm的子结构上的特征尺寸、关键尺寸、轮廓、形状和表面质量进行全面而准确的分析。该系统包括光束感应电阻（OBIR）和光束感应电流（OBIC）测量技术，以有效测量小型复杂微结构的临界尺寸（CD）和器件地形。该机组的主要目标是提供快速、准确和可靠的半导体器件数据，以改善生产控制和降低成本。它配有一个独特的转盘，包含整个晶片，允许晶片映射和变形分析。该机器在高度自动化的扫描仪上运行，该扫描仪具有先进的光学成像工具，可以在掩模和晶圆上以高分辨率获取特征图像数据。这就产生了许多数据点，可以在广泛的光线条件下进行分析。OBIR技术能够对大马士革、金属、隔离和其他反射结构进行测量，OBIC技术旨在检测使用OBIR可能无法检测到的小几何形状。这种组合使得几乎不可能错过微观组织缺陷。Caliper Mosaic资产具有直观的用户界面以及用于缺陷分析和数据报告的高级软件功能。用户界面允许操作员直接从数据日志中轻松设置作业，并快速查看和确认测量结果。该软件提供了跨大型布局框架测量的功能,而无需逐点测量或从测量软件导出数据。模型使用定制的光学和滤波器来匹配底层半导体材料，具有处理非对称结构和隐藏特征的能力。该设备还可用于同时执行多个检查，包括侧壁、沟槽、NMOS、PMOS和DF路由级别。在直观的用户界面和高级软件功能之下,NANOMETRICS Caliper Mosaic系统具有强大的硬件,包括具有高动态范围和更大视野的高级光学成像单元,以及润湿机、多激光器和硬件自动化功能,以最大限度地提高吞吐量并减少手动工作量。总体而言,Caliper Mosaic工具是一种可靠而全面的自动掩模和晶片检查资产,可快速准确地分析特征尺寸、关键尺寸、轮廓、形状和表面质量。该模型适用于先进的半导体器件制造，实现了有效的工艺控制和成本降低。
还没有评论