二手 NANOMETRICS CD-50-2 #9123936 待售
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ID: 9123936
优质的: 1999
CD control systems
Measurement :
(1) Nanometrics microscope with trinocular head
Isolation stand
Eyepieces: WHK 10X/20L
Objectives:
Ms plan 5X/0.13
Ms plan 20X/0.46
ULWD Ms plan 50X/0.55 X-Y-Z stage
Computers
(7) video camera
Computer controlled scanning photometric microscope instrument
Designed for measuring line widths
Gaps and registration alignment
Effective measuring range: 0.5 to 125.0 microns
Stage X-Y movement: 4" x 4"
Scan time of less than 5 secs
Voltage: 115V
Power: 50/60 Hz
1999 vintage.
NANOMETRICS CD-50-2是为掩模和晶圆制造商设计的高端掩模和晶圆检验系统。它旨在为口罩和晶片制造商提供行业中无与伦比的精确度和精确度。凭借其精确的光学器件、先进的图像处理和纳米精度,CD-50-2能够为口罩和晶片制造商提供无与伦比的质量控制水平。NANOMETRICS CD-50-2利用五个发射不同波长光的激光模块组成的阵列。这些激光器与独特的光学系统相结合,该系统设计用于检测纳米尺度的掩模和晶圆缺陷。CD-50-2能够准确地测量微观缺陷,从单个掩模和晶片特征到原子,并看到地下缺陷。NANOMETRICS CD-50-2还具有强大的图像处理算法,它可以检测到甚至最难看到的缺陷。这种强大的算法能够准确确定所有缺陷的位置和大小,无论是在掩模还是晶圆材料中。除了具有高精度光学和图像处理能力外,CD-50-2还拥有一个全面的掩模和晶圆材料及规格数据库。这使得NANOMETRICS CD-50-2能够准确确定它被要求检查的任何掩模或晶片的特性,并生成有关结果的详细报告。CD-50-2是一个强大的除了面罩和晶圆检查领域。其高精度的光学和图像处理能力使其能够检测到甚至最小的缺陷,而其全面的掩模和晶圆材料数据库使其能够准确确定特性,并生成关于结果的详细报告。NANOMETRICS CD-50-2极具成本效益,是寻求最优质产品的面膜和晶圆制造商的理想选择。
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