二手 NANOMETRICS M-215 #9121885 待售

NANOMETRICS M-215掩模和晶片检测设备设计用于在集成电路生产中使用之前,对标线、掩模和晶片进行快速、可靠的自动缺陷检测。该系统提供准确、可重复的结果,使制造商能够检测到其口罩和晶片上最小的缺陷。该单元提供高分辨率成像，最高5.5微米的扫描分辨率和5微米的图像放大倍率。检测亚微米缺陷的能力确保了口罩和晶片的最高质量。M-215可以用6 x 6英寸的视场快速检查大面积区域,实现高达0.08平方英寸/秒的扫描速率。这种速度是可能的，这要归功于这台机器的专利设计，它采用了一个光桥，使激光能够快速地修复检查区域，同时采取更少的步骤。除了世界级的成像功能外,NANOMETRICS M-215还提供高级缺陷分类功能,使其能够快速准确地逐个识别缺陷。该工具采用动态阈值资产,使其能够实时识别掩蔽和意外缺陷。该模型还包括一个功能强大的缺陷分析模块，允许用户进一步完善其缺陷分析结果。此模块结合了复杂的软件工具,使用户能够高效分析和分类缺陷数据。M-215设计为高度可靠,可免费操作。它包括一个温度控制的光学单元，无论环境温度如何，它都能保持最佳的成像温度。其设备内校准可确保随着时间的推移保持一致的速度和性能。NANOMETRICS M-215易于使用,它提供了一个图形用户界面,即使是新手用户也可以快速配置和操作系统,而且很少进行培训。它还包括一个搜索/过滤选项，可以快速隔离感兴趣的区域，进一步提高用户效率。最后,M-215是为长期可靠性而设计的,旨在满足严格的质量要求,错误率为0.1%。它的长期可靠性确保了多年的无故障运行,使制造商能够获得最高的质量水平和最一致的结果。