二手 NANOMETRICS M6100A #9243269 待售

NANOMETRICS M6100A Mask&Wafer Inspection Equipment是一种多才多艺、功能强大的精密检测工具,旨在满足晶圆和Mask检验行业日益增长的需求。M6100A系统利用高分辨率激光成像装置检查晶圆和掩模图样，从而实现微米级分辨率。该机器能够以经济高效的方式检测极小的缺陷，如电线断裂和触点缺失。NANOMETRICS M6100A工具具有多种可用选项和功能,包括光学变焦和增强的图形功能。该资产旨在满足各种掩码和晶圆技术应用的需求，使用户能够快速准确地获得尽可能高的图像质量。该模型能够使用多种材料操作，包括透明和不透明层，并支持直接和间接检查。在M6100A的情况下，两台4百万像素摄像头安装在一个大的、低调的、轻巧的不锈钢框架后面，以确保平稳的操作和最大的设备精度。LED背光可增强图像对比度,从而获得更高的效果和可靠性,而使用寿命长的光学变焦镜头则可放大极小细节的视图。除了这些特性外，NANOMETRICS M6100A系统还具有缺陷检测、三维（3D）图像生成等多种先进的离线功能。这样就可以快速轻松地查看掩码模式并检测缺陷。该单元还能够从多个来源插值数据,从而更容易识别和查找难以看到的缺陷。此外,M6100A台机器使用智能模式识别算法提供自动缺陷检测,以及在需要时手动输入参数。自动缺陷检测可确保在掩码模式查看时性能一致,而手动参数条目允许用户自定义搜索条件以识别更细微的缺陷。此工具还与各种软件和CAD系统集成在一起,允许用户直接访问源文件中的数据,从而简化检查过程。NANOMETRICS M6100A Mask&Wafer Inspection Asset是一种先进的高分辨率检查工具,能够发现其他检查系统会遗漏的Mask和Wafer上的缺陷。它为用户提供了一种经济高效的方法来获得高质量的结果,同时提供了各种各样的特性和功能,使其成为检查和验证掩模和晶片图样的理想选择。