二手 NANOMETRICS NANOLINE 50-2/50-2C #9101475 待售

NANOMETRICS NanoLine 50-2和50-2C是高性能的自动掩模和晶圆检测系统。它们是为200 mm晶片设计的,阵列尺寸可达2000 mm × 2000 mm。设备可以用高分辨率CCD相机检查晶片的图案缺陷、颗粒污染和光刻材料。该系统能够在短时间内生成完整的全芯片图像。这些图像是由扩散受限的对焦目标或专有的宽步模式创建的，并在高分辨率、大幅面电荷耦合器件（CCD）相机和激光线投影单元上提供。该机器还提供了一种先进的StereoDetection算法,它可以检测最具挑战性的计量挑战中的小细节、攻击性缺陷和跨越缺陷。NanoLine 50-2和50-2C采用集成的图像处理工具,能够从晶圆中提取精细的图样细节,并提供自动缺陷分类和输出报告。该资产能够查看近红外（NIR）和光学成像。此外,还可以配置3D功能,以便检查低地形区域。NanoLine 50-2/50-2C旨在提供高可重复性和长期精度。它利用一个快速的重新定位模型，一个增量加速度计和动态平衡设备，以确保准确的图像对准随着时间的推移。该机可使用三辊独立轴，扫描速度高达2000毫米× 2000毫米/秒。该系统的组件由刚性、不弯曲、易于维护的材料构成，以确保最高质量的图像和性能。该单元还通过专有的NANOMETRICS算法进行校准，该算法能够补偿相机传感器、镜头和照明方面的变化。机器由功能强大、易于使用的图形用户界面（GUI）控制。GUI完全可定制,并具有高级工具自动化和报告功能等功能。它还与最常用的EDA或CAD软件兼容，使得集成到流程流中变得容易。NANOMETRICS NanoLine 50-2和50-2C的设计旨在确保计量应用的最高质量结果。高分辨率图像、精确缺陷检测和可重复性能使其成为半导体缺陷检测、光学光刻和光伏面板检测等应用的理想选择。该工具的高级功能和直观的GUI使其非常适合大批量生产和研究环境。