二手 NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV #9105590 待售

NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV是一种掩模和晶圆检测设备,它将自动对准与高分辨率成像和用户友好的软件相结合,使其能够快速且易于操作。该系统设计用于各种晶圆和掩模检查应用，为广泛的分析要求提供卓越的光学性能和灵活性。该设备采用大型高分辨率光学显微镜,用于检查晶片、掩模和芯片。显微镜的FOV为75毫米，可调节放大倍数可达200倍。该光学器件的设计可提供出色的图像清晰度和低像差,从而提高测量精度。显微镜还具有5百万像素的CMOS成像传感器，具有14位动态范围和出色的颜色灵敏度。NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV还提供了一个高级阶段扫描机,可实现最快、最精确的成像。该工具具有高速扫描资产和索引，设计用于在所有三个轴（X、Y和Z）上精确和同时移动。索引电机设计用于快速移动,振动最小：它可以在40毫秒内移动到40毫米,扫描速度超过200毫米/秒。NanoSpec 210 XP/UV还包括一个自动对准模型，以确保晶圆或蒙版被精确定位并对准显示器上相应的模式。这确保了一致的性能,即使在不同角度和位置拍摄多个图像时也是如此。该设备还具有数据记录能力，使用户能够将图像和详细测量数据存储到其计算机，以便进一步分析和报告。为了使用户能够快速准确地测量晶圆或掩模上的设计模式,系统包括一个内置的光学近似测量（OPM）单元,用于精确分析。OPM机可测量多达100个功能,并能精确定位和确定尺寸。OPM工具还包括一种用于优化性能的高级模式识别算法。最后，用户友好的软件界面使得控制资产和执行复杂的操作变得容易。软件包括一组完整的设置和选项来自定义分析,从而使用户能够快速准确地测量设计模式、缺陷等。总体而言,NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV是一种先进的掩模和晶圆检测模型。该设备具有高分辨率成像、快速扫描阶段和准确的数据记录,为各种晶圆和掩模检查应用提供了卓越的性能和灵活性。