二手 NANOMETRICS NanoSpec 210 #9057991 待售
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ID: 9057991
晶圆大小: 6"
Film measurement system, 6"
Dual stage
Range of Thicknesses: 100 to 500,000 angstroms
Reflectance Mode
Thick Films, Reproducibility: 5A ± 5% depending upon the film type
Typical Measurement Time: 2.5 seconds
Olympus M10x and M40x objective
Spot Size:
50 um with 5x objective
25 um with 10x objective
6.5 um with 40x objective
Film Types:
Oxide on Silicon
Nitride on Silicon
Negative Resist on Silicon
Polysilicon on Oxide
Negative Resist on Oxide
Nitride on Oxide
Polyimide on Silicon
Positive Resist on Silicon
Positive Resist on Oxide
Options available: Olympus M5X and M100X.
NANOMETRICS NanoSpec 210是一种掩模和晶圆检查设备,旨在以高精度和高速度检查标称和非标称特征。全自动系统能够测量200毫米晶片上的小特征和小缺陷到1 µm。该单元包含高分辨率成像机和红外光学器件、光学剖面仪和晶圆机器人等组件。成像工具采用宽视场进行首次通过检查,采用窄视场进行高分辨率检查。光学剖面仪用于三维表面剖面仪,晶圆机器人则用于处理晶圆并将其正确定位在资产上进行检查。NANOMETRICS NANO SPEC 210还有一个先进的数据处理单元,使其能够快速识别和分类特征、缺陷和非标称结构。模型提供了每个检查区域的详细报告和图像,可用于进一步的表征和验证。该设备还拥有各种软件工具,如测量数据分析包(MDAP)和虚拟缺陷掩码审阅包(VDMR)。MDAP有助于快速识别和分类复杂缺陷,而VDMR则全面概述检查结果以进一步诊断或缺陷分类。NanoSpec 210也适用于高精度检查翻转芯片、微机电系统(MEMS)和CMOS图像。它是各种半导体工艺的可靠、经济高效的检验解决方桉。整个系统装在一个机柜中,便于安装和操作。通用的标准配置允许在不进行任何硬件修改的情况下完成各种检查任务。综上所述,NANO SPEC 210是一种精密的掩模和晶圆检测装置.它速度快、可靠、性价比高,适合广泛的半导体应用。它结合了高分辨率成像机、光学剖面仪和晶圆机器人以及专门的软件,用于对标称特征和非标称特征进行检查和分类。
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