二手 NANOMETRICS NanoSpec 2100 #9272568 待售

NANOMETRICS NanoSpec 2100是一种下一代的掩模和晶圆检测设备,能够对光学光掩模和IC进行分析和生产优化。该系统利用先进的光学成像技术和3D映射,以无与伦比的精确度和保真度捕获和分析缺陷图像,从而能够全面准确地看到制造过程。NanoSpec 2100提供真正的三维缺陷评估和高级光学测量功能,提供更快、更精确的信息,从而加速集成电路设备和掩码的开发和生产。该单元测量尺寸高达0.005 μ m的特征级缺陷，并采用无调整统计计量算法自动检测和表征晶圆缺陷。NANOMETRICS NanoSpec 2100非常适合进行详细的缺陷分析和审查,可自动识别缺陷、空隙和矿坑并精确确定其大小。机器的高级硬件和软件检查为晶圆和掩模缺陷检查提供了全面的结果,从而能够详细评估多个级别和站点之间的掩蔽和组成偏差。晶圆测量可以在单一缺陷和多个缺陷模式下进行,缺陷列表、排序和分析功能提供了解决故障机制和区域的有效方法。该工具的软件界面支持操作员培训，允许用户自定义检查过程并定义标准，专注于最感兴趣的领域。NanoSpec 2100资产还允许将缺陷图像和数据传输到其他数据库系统,使其成为制造过程中数据共享、分析、参数设置和检索的理想选择。总体而言,NANOMETRICS NanoSpec 2100是一种高级检查模型,可提供卓越的缺陷成像、评估和生产优化功能,从而使创建光掩模和IC的过程更加高效可靠。该设备具有自动缺陷识别和3D映射功能,可帮助减少周转时间并确保对制造过程进行准确分析。