二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9021098 待售

NANOMETRICS NanoSpec 6100是一种掩模和晶片检查设备，利用其先进的光学成像能力，在检查半导体掩模和晶片时提供可用的最高分辨率成像。该系统为掩码和晶片检查提供了完整的解决方桉,使用户能够在主动晶片制造过程中快速轻松地验证设计准确性和规则合规性。NanoSpec 6100配备了多种先进的光学成像系统，包括激光扫描共聚焦显微镜（LSCM）和点投影3D共聚焦显微镜（PPCM）。它可以对从二氧化硅（SiO2）到4英寸表层基板的晶片类型进行成像，同时在掩模和晶片上提供关键图样的高分辨率成像。NANOMETRICS NanoSpec 6100还配备了Arc ~ Link功能,可与自动检查工具集成,以简化掩模和晶圆检查过程。这种集成允许自动更新各种参数，同时还允许对处理后的检查数据进行实时分析。NanoSpec 6100能够进行速度匹配,允许更快的速度吞吐量和改进的仪器吞吐量可靠性,同时还允许在样品区域发生变化或缺陷时增强测试覆盖范围。该装置采用高灵敏度检测器机器，可实现高达0.1微米的高分辨率，同时通过纳米级精度进一步提高放大设置的精度。此外，该工具还具有独特的双聚焦补偿功能，即使样品不对准，也能实现最佳的掩模和晶圆聚焦。NANOMETRICS NanoSpec 6100还标配了强大的处理引擎,可实现最佳图像增强。这种图像增强允许检查更精细的图桉，并去除光学伪影。NanoSpec 6100结合了检验和计量资产,能够提供最全面的解决方桉,在制造过程中主动监控掩模和晶片的质量。此模型具有多种特征,使其能够精确检查难以成像的几何形状和材料。NANOMETRICS NanoSpec 6100利用特殊技术,例如偏振照明和扫射多级焦点,以减轻光学伪影的影响。最先进的NanoSpec 6100版本是型号M-821-RF,它具有81.25吨视图的全视野,使其适用于大多数掩模和晶圆类型。总之，NANOMETRICS NanoSpec 6100是一款先进的蒙版和晶圆检测设备，为用户提供卓越的光学成像能力、速度匹配、纳米级精度以及强大的处理引擎。该系统还具有多种高级图像增强选项,如偏振照明和多级聚焦,使用户能够检查难以成像的几何形状和材料。NanoSpec 6100为用户提供了一个集成的检验和计量单元,从而可以在制造过程中更密切、更准确地监控口罩和晶片的整体质量。