二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9408485 待售

NANOMETRICS NanoSpec 6100是采用最先进的成像、扫描和测量技术构建的专门设计的掩模和晶圆检测设备。该系统能够分析分辨率高达8k的掩模和晶片,并能够测量重复精度低于10nm的数据。NanoSpec 6100设计用于在生产前和生产阶段，在包括半导体、光掩模、印刷布线板和电子包装在内的多个行业中检查大型口罩和晶片。该单元配有一个电动级，用于自动样品扫描；双轴机动高度调整，以快速有效地测量样品；以及获得专利的智能像差校正算法。这些特性使其能够在大面积上检测小至1.0uM的缺陷,从而以较小的可变性提供可靠的检测。它可以检查尺寸不超过575 x 489mm的口罩和直径不超过4英寸或200 mm的晶片。在数据输出方面，该机可提供高对比度图像和产生的缺陷图，具有虚假对比度增强、暗对比度增强和颜色对比度增强。在成像能力方面，NANOMETRICS NanoSpec 6100使用拉曼共焦（RCM）工具，这是一种先进的成像方法，利用生物对比机制产生光学切片而无需物理烧蚀。RCM资产提供了广泛的分辨率功能,并且可以对复杂的表面结构进行成像,而其他成像技术无法做到这一点。该模型进一步提供了全自动的现场排泄率分析，为缺陷分析提供了全面的数据输出。这意味着设备生成的自动报告包含有关材料结构、缺陷特性和缺陷潜在原因的详细信息。最后,NanoSpec 6100提供了一项特殊功能,允许用户根据需要检查的表面缺陷设置检查参数。这样可以提高检查各种曲面的灵活性。总体而言,NANOMETRICS NanoSpec 6100是一个高度先进的掩模和晶圆检查系统,它结合了最先进的成像和扫描技术,并提供自动排便分析以提供全面的结果。该装置能够对复杂材料进行详细的分析和测量，使其成为检测优质口罩和晶片的绝佳选择。