二手 NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100 #96637 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 96637
晶圆大小: 4"-8"
Automatic film thickness system, 4"-8"
Model 7000-0410 Rev. P2
Model 7200-1750 Rev. A Computer
Model 7200-0410 Measurement head
100 to 500,000 Angstroms range of thickness
NIKON M Plan 10X & 40X Objective lenses
Manual sliding stage for 5” & 6” Wafers
Databank 2 storage system with 14 standard programs
Video display monitor
SECS-2 Communication interface
20 Column thermal printer.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 2100是一种综合性的掩模和晶圆检测设备。利用先进的扫描成像技术,该系统能够检测半导体制造过程中使用的掩模和晶片的微小缺陷。该单位还提供自动缺陷分类,为检查人员快速准确地识别大量设备中的缺陷提供了系统的程序。AFT 2100利用可见光检测和分析掩模和晶片中的微观缺陷。它具有高度灵敏的光头和更明亮的入射光源,能够准确地表示复杂的拓扑,并能够进行高速检查。机器还结合了光谱分析,使其能够检测到各种缺陷中光谱反射率的微小差异,如空隙、污染物和裂纹。AFT 2100配备了最先进的图像处理算法和用户友好的图像分析工具,能够快速识别缺陷。它可以自动对个别缺陷进行分类,并确定其临界性。该工具具有识别系统缺陷的内置完整性计算器。它还提供了自动化的产量总结和分析,使其更容易分析大产量的晶圆和掩模。AFT 2100还包括高效的缺陷消除资产。该模型帮助检查员减少缺陷,使他们能够快速准确地识别和消除缺陷,从而提高制造的晶片和口罩的整体质量。此外,该设备能够快速平均测试晶片的图像,减少检查和分析的总时间。AFT 2100是可靠、用途广泛的掩模和晶圆检测系统;提供准确、快速和易用性。它为检查员提供了一个高效、有效和经济高效的解决方桉,用于识别和消除口罩和晶片中的缺陷。它结合了深度成像分辨率、光谱分析、缺陷识别、分类和完整性计算器,成为半导体制造商的宝贵工具。
还没有评论