二手 NANOMETRICS NanoSpec AFT 210UV #9160099 待售
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ID: 9160099
晶圆大小: 4"
Film thickness measurement system, 4"
Stage: 4" wafers
Range of Thickness: 100 to 500,000 angstroms
Spot size: 50 um with 5x objective
25 um with 10x objective, 6.5 um with 40x objective
Objectives: Olympus MS Plan 5, MS Plan 10, ULWD MS Plan 50
Optional objectives: Olympus M5X and M100X
Film types:
Oxide on Silicon
Nitride on Silicon
Negative resist on Silicon
Poly silicon on Oxide
Negative resist on Oxide
Nitride on Oxide
Polyimide on Silicon
Positive resist on Silicon
Positive resist on Oxide
Reflectance mode:
Thick films, reproducibility: 5A ± 5% depending upon the film type
Typical measurement time: 2.5 seconds
Typical measurement time in UV mode: 10 seconds.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 210UV是一种最先进的面罩和晶圆检测设备,其检测精度最高。该系统将先进的光学和数字成像技术与计算机控制的扫描单元相结合，提供最高水平的检测精度。AFT 210UV提供分辨率低于50纳米的图像分析、缺陷分析、缺陷大小和缺陷映射。该机包括两个线性扫描阶段，一个检振扫描阶段，以及一个谨慎扫描阶段，以产生广泛的扫描参数和分辨率。谨慎扫描阶段具有高达10nm的分辨率和~ 10mm2的视场。这三个阶段都结合了一个1200万像素的摄像头，能够以极高的速度和精确度获取图像。此外，该工具还包括一个16位数字信号处理器（DSP）、一个现场可编程门阵列（FPGA）和一个微控制器，用于并行执行图像捕获、缺陷检测和分析。AFT 210UV中的光学引擎旨在为要求最苛刻的检查应用提供高效率和高分辨率。先进的光学设备还可以实现成像功能,如色彩、增益、聚焦、实时视图和极化。AFT 210UV配备了先进的软件和算法以实现自动检查。其先进的分析和图像处理算法可用于检测晶圆和掩码上的小缺陷。该资产还具有先进的缺陷分析算法,可准确识别、分类、计数、大小和绘制晶圆或掩码上的缺陷。总体而言,NanoSpec AFT 210UV是一种功能强大且可靠的掩模和晶片检查工具。它具有精确光学、超高速成像、高分辨率和先进成像算法的独特组合，提供最高水平的检测精度。该模型非常适合在处理高级晶圆和掩模制造过程时做出关键决策。
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