二手 NANOMETRICS NanoSpec II #293766064 待售

NANOMETRICS NanoSpec II是NANOMETRICS开发的一种掩模和晶圆检测设备，用于精确检测小至0.1µm的缺陷。NanoSpec II旨在提供市场上质量最高的成像,并可轻松集成到复杂的半导体工作流程中。这套新系统具有高达128倍的高分辨率成像功能,可进行最佳缺陷分析。它的路径分割功能利用多个传感器来检查单个模具,从而缩短了检测时间并提高了整体吞吐量。此外,其独特的ASMI（适应性子像素运动插入）技术可补偿样品变形,确保一致准确识别缺陷。此外,NANOMETRICS NanoSpec II还提供了广泛的视野和全域测量,并具有用于关键覆盖缺陷分析的真实覆盖。该单元获取所有可用的光数据以实现最大的图像模拟,包括暗场、亮场和偏振。NanoSpec II还配备了全套自动化缺陷分类算法，以有效地对潜在缺陷站点进行排序。报告的假阳性缺陷站点较少,因此无需手动查看字形图像进行检查。此外,色彩增强技术会将缺陷影像呈现为本色,以提高分类精度。这台正在申请专利的机器集成到NANOMETRICS校准平台中,可在不同的现场尺寸上提供简单的安装和出色的图像一致性,从而降低测试成本。它易于使用的软件平台简化了工具配置,提供了自动化的工具和样品检查、图像捕获和缺陷审查,从而提高了整个掩模和晶圆检查过程的效率。NANOMETRICS NanoSpec II是一个理想的解决方桉,适用于需要提高晶圆缺陷灵敏度、提高生产率的制造商,并为需要直观、易于使用的检验资产的制造商设计。它具有高精度成像功能,是希望提高工作流程速度和准确性的制造商的理想选择。