二手 NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV / M-5100 #9211233 待售

NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV/ M-5100是一种多功能的多传感器掩模和晶圆检测设备,旨在为用户提供无与伦比的精确度的高效结果。它提供了业界最高的空间分辨率和最精确的特征分析。该系统将特征测量、CD计量和低噪声图像结合到一个单一的、用户友好的仪器中。NanoSpec M-5100UV/ M-5100包括四个不同的基于激光的扫描仪,它们高效且可定制,可用于各种掩模和晶圆检查应用。这四种扫描设备分别是Nanofocus X射线、Mask-to-Wafer Unit、Overlay/Flatness Machine和Reticle Defect Tool。Nanofocus X射线扫描仪拥有高分辨率成像资产,可提供高达15nm的图像。此模型允许自动识别和匹配特征,从而使其在识别和表征特征方面非常高效。Mask-to-Wafer设备能够快速比较每个mask和wafer的CD/SD轮廓，然后准确评估两者之间的差异。它还可以实时进行掩模和晶片检查。这样可以快速高效地进行掩码和晶圆的比较。覆盖/平整系统的设计目的是为了加快对具有平整度和覆盖精度的掩模和晶片的检查。单位测量不同特征和大小的两者之间的差异。这样就不需要繁琐的手动测量了。Reticle缺陷机器由一种模式识别算法组成，该算法在检测和识别标线上的缺陷方面非常准确。它还可以自动保存检测到的缺陷，允许用户在检查标线时节省时间和资源。总体而言,NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV/ M-5100是一种高效、准确的工具,可帮助用户快速准确地识别和表征掩码和晶片上的特征。它的四个扫描设备以精确的特征分析提供了最高的空间分辨率，成为高效掩模和晶圆检测的理想选择。