二手NEUVIS(晶圆检测)待售

NEUVIS是一家着名的口罩和晶圆检测设备制造商，为半导体行业提供一流的技术。他们的检查系统配备了最新成像技术的类似物，确保了对掩模和晶片缺陷的准确检测和分析。NEUVIS检查单位的一大优点是灵敏度非常高，即使是最小的缺陷也能被检测出来。这些机器采用了先进的图像识别和处理算法，在缺陷识别方面提供了更高的准确性。此外,NEUVIS工具提供高吞吐量速度,确保高效快速的检查过程。其中一个突出的例子，他们的面罩和晶圆检验系统是IR2R。该系统利用红外辐射进行缺陷检测，使其能够识别可见光资产所看不到的缺陷。该IR2R在检测子像素缺陷方面具有显着优势,并提供了非常精确的结果。NEUVIS检查模型在评估口罩和晶片的临界尺寸（CD）方面也表现出色。它们精确测量CD参数，确保半导体器件的质量和性能。综上所述，NEUVIS掩模和晶片检测设备拥有先进的类似物，优越的缺陷检测能力，高通量速度，精确的CD测量。该IR2R是一个突出的例子，展示了NEUVIS在利用红外辐射识别缺陷方面的专业知识。