二手 NIKON 2A #77230 待售

NIKON 2A是由NIKON光学微电子技术团队开发的Mask and Wafer检测设备。它设计用于对掩模、晶片和独立胶片上最精细的蜂窝电路模式进行最精确的检查。2A的核心是集成两个激光系统的先进光学设计。第一个激光系统是一个Koehler基板方差，旨在拾取在面膜，晶片，和独立的薄膜微妙的微小模式变化。第二个激光单元采用超高精度目标，精确捕获潜在缺陷，如小颗粒和暗场模式，并提供低于1 μ米的分辨率。通过将这两个系统与全自动图像分析机相结合，NIKON 2A可以对复杂的面膜、晶片和独立式薄膜进行全面检查。其先进的光学设计和自动化成像工具融合了高对比度的分辨率和更大的视野。这样就可以快速、准确地分析面膜和基板上的亚微米模式和缺陷。此外，2A包括一个可选的扫描资产，允许检查和分析基板在制造过程的各个阶段的动态转化。NIKON 2A的成像模型能够同时提供2D和3D信息,并能够检测表面和掩埋缺陷。它能够检测任何角度的缺陷形状,并自动将其校准为指定的大小。最后,设备提供了详细的缺陷分析,包括尺寸、形状和质量。2A中强大的硬件设计具有最大的可靠性和易于维护。它的高级自动化实现了简单直观的设置,而直观的用户界面则便于操作和控制。简而言之，NIKON2A是一种可靠、高精度的掩模和晶圆检测系统。它能够准确识别微小的模式变化，并检测口罩、晶片和立膜上的潜在缺陷。2 A提供强大的图像分析和校准,以及详细的缺陷分析和直观的用户界面。其坚固的设计保证了最大的可靠性和易于维护。