二手 NIKON NSR 2205 i14E2 #293725478 待售
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ID: 293725478
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
Stepper, 8"
Lamp Power: 847.096㎽/㎠
Lamp Uniformity: 4.450%
Repeatability (3sigma n-1) 0.036um
Step-X (3σ): 0.019 ㎛
Step-Y (3σ): 0.017 ㎛
Magnification: 1/5 Reduction
Light Source: i‑Line (365 nm)
Resolution: 0.35 µm
Lens NA: 0.50–0.63 Variable
Exposure Field Size: 22 mm (up to 17.9H × 25.2V)
Control: Bellows Unit
Lens Adjustment: Micrometer / PIEZO / Washer
Lamp: 2.5 kW Hg Lamp
PC System Type: DMCC
No UPS System
Reticle Size: 5-6"
Alignment Sensor LSA
Alignment Sensor FIA
No Alignment Sensor LIA
Alignment Sensor TTLFC2
Measure Software
Illumination System: SHRINC4 Type
Interferometer Type: 5517C
Interferometer Wafer Stage
Interferometer Reticle Stage
Focus System: Multi Focus
Leveling System: Table
Wafer Loader Type: Type 3
Wafer Orientation / Notch: OF or Notch
Wafer Loader Wafer Size: 8"
(2) Cassettes
Wafer In‑Line: Left In‑Line (DNS)
Wafer Pre‑Alignment Type: NC PRE2
No Wafer Edge Exposure
Reticle Loader Type: Normal
Reticle Barcode Reader
Particle Checker
Signal Tower
ASAHI SENDAI N4A‑C Chamber
Electrical Power Spec: 208 V / 60 Hz / 3‑Phase
2001 vintage.
NIKON NSR 2205 i14E2是为大体积半导体制造而设计的先进晶圆步进器，特别是在集成电路（IC）和其他微电子器件的生产中。这种最先进的设备结合了精确对准、超高分辨率成像和先进的阵列设计功能,能够以卓越的精度和可重复性在硅片上制造复杂的纳米结构。NIKON NSR-2205I14E2的核心是一个利用深紫外线（DUV）光源实现亚微米分辨率的精密投影光学系统。该单元采用具有多镜头元件的高数值光圈（NA）透镜，将DUV光聚焦到晶片表面上，从而能够打印临界尺寸低于100 nm的极小特征。先进的光学设备还采用了自适应照明和像差校正技术来优化整个晶片的图像质量和图样保真度。NSR-2205 I14E2的主要优点之一是其出色的迭加精度，这对于在光刻过程中对齐晶片上的多层图桉至关重要。该机利用先进的多自由度对齐阶段，加上复杂的图像处理算法，实现了不同掩模层之间的亚纳米对齐精度。这样就可以制造复杂的多层结构,并具有严格的注册要求,例如高级内存和逻辑设备中的结构。除了卓越的对齐功能外,NSR 2205I 14E2还提供了一系列高级阵列模式,以适应各种光刻要求。该工具同时支持接触光刻和接近光刻模式,允许晶圆上具有不同特征大小和长宽比的阵列。它还具有可变数值孔径（VNA）功能，使用户能够调整投影光学器件的分辨率和焦点深度，以适应不同的图样需求。为了提高生产率和缩短周期时间,NSR-2205I14E2配备了自动晶圆处理和对准系统。该资产具有机器人晶片装载机和卸载机，以及先进的晶片对准传感器和算法，以确保在光刻过程中快速准确的晶片定位。这种高度自动化不仅提高了吞吐量,而且最大限度地减少了操作员的干预,降低了人为错误的风险,并提高了整个过程的效率。总体而言,NSR 2205 i14E2代表了晶圆步进器技术的最前沿,为半导体制造商提供了一种强大的工具,能够以卓越的精度和可靠性满足亚微米光刻技术的要求。凭借其先进的光学设备、精确的对准功能和自动化功能,此型号非常适合生产下一代具有不断提高的复杂性和性能水平的微电子设备。
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