二手 NIKON Optistation 1A #9111520 待售

NIKON OptiStat 1A Mask&Wafer Inspection Equipment是一个革命性的集成系统,旨在为对Mask和Wafer图样进行高效的光学分析提供完整的解决方桉。这个全面的掩模检查单元使用先进的光学技术，提供自动化和手动检查能力。OptiStat 1A包括300mm × 200 mm视场宽视场显微镜和3X光学变焦,以及F-Theta-Zoom透镜,可横向移动视场,均匀放大倍率高达500 X,以实现优化成像。该机还集成了高分辨率多光谱成像通道，用于精确识别关键缺陷。OptiStat 1A工具提供了全面的检查功能,包括自动对焦和精细调整、内置的图像鲁棒性滤波器,以及多用途的跨景深分析,以便用户快速准确地获取和分析完全优化的图像。NIKON高级测量、分析和审阅算法允许对线缘粗糙度、线宽变化、轮廓和线宽精度等特征进行精确可靠的评估。此外,该资产的全自动点击缺陷识别功能能够轻松检测缺陷,使其适用于平版印刷质量保证操作。NIKON OptiStat 1A模型集成了最先进的光学元件和增强的成像技术,为掩模和晶片图样检查和评估应用提供了最佳效果。设备先进的图像处理功能、灵活的软件体系结构以及直观的图形用户界面，为用户在检查掩模和晶圆图样时提供了更加完整的控制和精度。此外,系统的高通量设计允许快速高效地分析大量的掩模和晶圆模式。NIKON OptiStat 1A是确保掩模和晶圆图样检查和分析中尽可能高的制造质量的重要工具。是一个多功能、综合的单位，既适合研究又适合生产级检验要求。此外,该机器全面的设计和用户友好的操作使其成为需要快速可靠的评估和准确检测缺陷的用户的理想选择。