二手 NIKON Optistation II #9307809 待售

NIKON Optistation II是为平版印刷生产而设计的面罩和晶圆检验设备。凭借其最先进的照明和成像技术，它能够进行可靠、高精度的测量，并具有极低的噪声水平，用于微电子工业。该系统具有一个光场传输照明模块，作为成像应用的光源。它为清晰的成像和不受探测器和图样干扰的信号提供了良好的对比度。其坚固、稳定的结构设计在200 µm以上的广域范围内保持均匀。检测单元还包括一个易于使用的maXelerator级，提供快速、平稳的移动和精确、可重复的定位。它能够扫描大面积，如一次移动中的全晶片，同时准确计算沿途的中间点。Optistation II提供了一系列先进的定量图像分析功能，用于准确和可重复的缺陷检测。它可以识别线宽、边缘位置、线粗糙度和缺陷大小等多种参数，用于精确的测量和诊断。该机器基于一次曝光、快速视图对齐技术，允许用户快速识别、对齐和测量晶片上的防御模式。它配备了集成测量技术，在软件控制下与高速扫描无缝结合，以优化吞吐量和精度。总体而言,NIKON Optistation II提供了一种功能强大且可靠的掩模和晶圆检查工具,可以高效地高精度地检查图样图像。它还能够在软件控制下快速搜索和精确测量晶片上的防御模式。凭借其强大的设计和先进的成像技术，是光刻生产的理想解决方桉。