二手 NIKON Optistation III #293629232 待售

NIKON Optistation III是一种蒙版和晶片检查设备，设计用于在半导体制造过程中提供对蒙版和晶片的高质量成像。该系统采用先进的光学、高分辨率相机和精密的基于算法的图像识别，快速准确地识别和测量半导体掩模和晶圆布局中的缺陷。NIKON OPTISTATION-III配备了一系列光学、透镜、滤色轮和光源，用于照明样品。它包含一个支持200和300毫米晶圆尺寸的晶圆检测阶段， 一个用于面罩检查的扁平基板检查阶段，以及一个高速， 与Optistation II相比,高精度、粗糙/精细的驱动级单元的吞吐量增加了3.5倍或更多。快速的级移动允许更短的曝光时间和更快的图像处理, 导致更准确的缺陷检查和准确的工业用途。检测机使用NIKON专有的Edge and Particle技术，自动检测晶圆表面特征之间的轮廓和尺寸差异，并准确识别掩模上的颗粒。大量图像处理算法检测边缘对比度和假色、数字信号处理、掩码级识别（MLI）、特征识别、粒子检测定位等检测功能。Optistation III还通过优化检查过程从而提高吞吐量来最大程度地减少停机时间。此工具具有SYSTEX-B,这是一种晶圆交换资产,它允许模型一次交换多个样本单元,从而显着提高吞吐量和效率。同样,即使需要补充检查口罩的库存,口罩交换设备（MES）也可确保连续运行。OPTISTATION-III方便用户,其自动化操作系统简化了设置和调整程序。NIKON Optistation III还为环境要素提供保护，并对每个系统元件进行调整，以确保在所有类型的光照条件下进行高质量的成像。它是一种先进的光学检测装置，适用于精密光掩模生产、掩模图样缺陷检测、标线检测、IC晶片缺陷检测等多种应用。这台机器为各种掩模和晶片检查要求设定了高标准的精度、灵活性和速度。