二手 OBDUCAT Eitre 6 #293613266 待售

OBDUCAT Eitre 6是一款先进的掩模和晶圆检测设备，旨在满足全球半导体制造商日益增长的需求。该创新系统采用0.25 μ米的技术及其他技术,可为用户提供无与伦比的速度、准确性和效率,用于检查口罩和晶片。Eitre 6包含一个大板载荷范围，同时支持300 mm和200 mm晶片，以及3"、6"和8"平板。该单元利用最新的光学成像和处理技术，对掩模和晶片进行全面的复习，具备种类繁多的检测模式和强大的自动化能力。光谱范围从250 nm到6.35 μ m不等，机器甚至可以检测到这些具有挑战性的基板中最复杂的缺陷。该工具具有安装在正交阵列中的圆形视场模拟摄像机的明场/暗场环形阵列。这种独特的配置确保只扫描蒙版和晶片中最相关的区域，有助于减少辐射暴露。此外,OBDUCAT Eitre 6还具有具有可重复缺陷分配的自动光学检查资产和内置通知模型,用于在检测到任何缺陷时向用户发出警报。可以在Eitre 6中添加一个可选的显微镜模块，从而在掩模和晶圆检查中实现更高的精度。此模块使用双目光学器件对亚微米特性进行直观的交互检查，使用户能够直观化和精确测量低至4nm的缺陷。先进的自动化系统也可以包含在设备中，使用户能够快速、轻松地实现检查自动化。从多设备自动化到自动缺陷识别和检测，用户能够控制系统以满足他们的确切要求。此外，该单元具有跨多个基板存储、分类和比较缺陷数据的能力，为用户提供了快速、轻松地识别问题的能力。OBDUCAT Eitre 6坚固可靠的设计确保了较长的保质期,并减少了保持机器最佳运行所需的维护和校准量。此外,该工具还能够与机器人系统配合使用,从而在制造操作中提供了很大程度的灵活性。总体而言,Eitre 6是功能强大、可靠且经济高效的Mask&Wafer Inspection资产,非常适合任何半导体制造商。凭借其先进的光学成像和处理功能、直观的自动化和双目显微镜模块,用户一定会体验到可靠和一致的操作。