二手 OLYMPUS KIF-201 #9271417 待售

OLYMPUS KIF-201是为半导体行业设计的领先的面膜和晶圆检测设备。它旨在满足对掩模和晶圆表面3维特征进行全面地形勘测的最高精度要求。该系统结合了先进的激光扫描技术，为掩模和晶圆上的3维特征生成高分辨率、详细的图像以及直观的用户界面，为质量控制检查创造了强大而有效的工作流程。KIF-201利用激光扫描狭缝,该狭缝沿预定义的路径扫描,穿过掩模和晶片表面,可进行极高的精度测量。该狭缝由氦硼激光和灵敏度高达28.2 muW的成像装置组成。激光狭缝能够精确测量高达210 μ m的距离，并且能够记录沿扫描线的多达250,000个点。这种高分辨率允许检测掩模和晶圆表面上最复杂的结构。OLYMPUS KIF-201还具有非接触成像功能,允许设备扫描细腻的结构而不会造成任何损坏。这对于容易刮擦或其他物理损坏的细腻样品是理想的选择。它还提供了一个可重复、可靠的过程来检查细腻的蒙版和晶片表面。此外,KIF-201还拥有一台独特的机器,用于管理相机曝光和激光扫描速度,确保每一个图像和测量都具有最高质量。OLYMPUS KIF-201提供的成像平台还具有强大的用户界面,可轻松设置和操作检查工作流程。它使用图形工具进行设计,以快速定义路径并设置图像捕获和测量的参数。检查过程也是完全自动化的，可以完全控制总测量持续时间和结果的准确性。总体而言，KIF-201是半导体行业一个强大而可靠的工具。它提供尖端激光扫描技术和高分辨率成像平台，确保精确、详细和可重复的测量。它还具有直观的用户界面，允许快速设置和易于操作的检查过程。它的非接触成像也确保了细腻的掩模和晶片表面可以被检查，而不会有任何损坏的危险。所有这些特性使OLYMPUS KIF-201成为精确可靠的掩模和晶圆检测的理想选择。