二手 OSI Metra 2100M #9026268 待售

OSI Metra 2100M Mask&Wafer Inspection Equipment提供了一个功能强大的检查、分析和缺陷审查平台,为半导体Mask和晶圆制造提供了高度准确的结果。此工具的独特设计使用户能够快速、准确地分析大型晶圆和/或掩码数据集。该工具可以以以前无法达到的速度快速扫描掩码和晶片。Metra 2100M可容纳高达2微米分辨率的图像,仅需90秒即可扫描整个13英寸晶圆。这种独特的优化,加上令人难以置信的高分辨率算法,确保了快速和准确的结果。该系统还设计用于降低晶片的拒绝率，以及消除检查数据集的错误缺陷。在深入分析方面,OSI Metra 2100M提供了许多用户可选择的通过/失败标准,以确保准确性。例如,灰度分析使用逐个像素的比较技术来精确测量图像细节。此外,该单元还为二进制分析、直线分析、填充分析、密度分析、对比分析和透明度分析提供了粒度分析和复杂应用。这些可以用来注意口罩和晶片之间最微小的差异，帮助识别和消除各种类型的缺陷。该机还包括功能强大的检测后缺陷审查和优化工具。在这里，用户有一系列选项，包括自动缺陷分类、缺陷数据可视化以及各种缺陷类型的自动分类。该工具还旨在为用户提供内置缺陷数据库,允许用户进一步缩短检查时间,并改进对缺陷的检测和排除。在用户舒适性和效率方面,Metra 2100M提供了高级温度控制和强大的文件格式管理器。这允许用户存储和比较不同的图像,并以有组织和高效的方式管理大型数据集。总体而言,OSI Metra 2100M Mask&Wafer Inspection Asset为用户提供了可靠、准确且易于理解的结果。其图像分辨率的优化、先进的分析、缺陷审查和优化工具使其成为半导体掩模和晶圆制造的理想选择。