二手 OSI VLS-1 #40614 待售

OSI VLS-1是一种先进的掩模和晶圆检测设备，用于半导体制造过程中检测光刻过程中的缺陷。检查系统采用精密的光学技术和高分辨率成像扫描，检测光刻工艺中使用的硅片和光掩模表面微米和亚微米大小的不规则性。VLS-1单元的核心是一个最大放大能力为五百倍的大型光学显微镜。这使得精确的成像能够检测晶圆和掩模表面最小的不规则性。为确保准确度，显微镜还配备了一个多LED照明机器，以实现最佳的光影对比度，以及一个用于精确测量成像规格的数字距离分隔仪。成像工具还包括自动模式识别资产，允许显微镜描绘图桉层的"指纹"，以及能够识别任何可能影响生产质量的不规则性的自动缺陷检测模型。有了这些系统，设备就能快速识别出表面可能存在的缺陷，并就问题提供快速反馈。OSI VLS-1不限于成像,因为它还包括一套全面的无损检测（NDT）选项。该系统具有电磁感应（EMI）功能,可测试短路、过流和其他可能因光阻处理不当而导致的异常。此外,该单元还可以利用声阻抗模式（AIM）和自动采样器模式（ASM）进一步分析原子级的晶片和掩码。整个机器由一个称为ProVS的高级软件解决方桉保护和监控。此完全集成的软件包控制映像工具的操作,提供实时性能,并实现远程数据访问和管理。此外,软件还可以生成自定义报告以及检查结果摘要。总体而言，VLS-1掩模和晶片检查资产使用高度先进的光学技术和无损检测选项来检测任何可能影响光刻工艺质量的不规则性。这一模式已被证明是半导体行业的宝贵资产，并受到该领域全球品牌的信任。