二手 RAVELLC NM450 #9358671 待售

RAVELLC NM450
製造商
RAVELLC
模型
NM450
ID: 9358671
晶圆大小: 6"
优质的: 2009
Photomask inspection system, 6" 2009 vintage.
RAVELLC NM450是一种先进的DUV蒙版和晶圆检测设备,专为高通量和高分辨率而设计.它以超高精度对先进半导体工艺进行晶圆级和单模成像。该系统具有高灵敏度的5级变焦光学单元,用于优化信号噪声水平,最大限度地扩大现场覆盖范围,并在前期发现缺陷。5倍变焦功能与倾斜移位级相结合,还可提高整个芯片领域的检测灵敏度。此外,超高分辨率模式有助于识别和分析小音高缺陷。机器还带有内置算法,通过自动提取、存储和显示检查过程中的关键数据来帮助提高工作流效率。该工具配备了高速对齐资产,即使在非常复杂的晶片上也能快速识别模具位置,从而导致无错误操作。此外,多区域扫描功能为用户提供了高度的灵活性,使他们能够根据特定的流程要求优化区域数量和对齐扫描分辨率。这进一步消除了不必要的测试周期,并简化了制造过程中的设置时间。NM450还采用了创新的综合Mura检测模型(IMDS)。这项先进的技术结合了先进的图像捕获、自动算法和超快速的计算机处理,以一种直到现在都不可能的方式来识别和拒绝拒绝。此外,这些设备还实施了一个完全集成的检查后审查模块和诊断工具,以帮助用户快速识别和解决有问题的缺陷。总体而言,RAVELLC NM450是一个功能强大且可靠的掩模和晶圆检测系统,为半导体生产带来无与伦比的性能、准确性和速度。它具有高度的可扩展性,允许用户自定义设置以满足其最苛刻的流程要求,而其直观的界面和高级自动化功能使其易于使用并降低成本。NM450具有卓越的精度、速度和成本效率,是半导体制造商的理想解决方桉。
还没有评论