二手 RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9276182 待售

ID: 9276182
晶圆大小: 8"
优质的: 2005
Wafer inspection system, 8" Standalone Main body EFEM Main UI Protection bar Manual type Inspection edge contact chuck Platform for 8" Matrox 4M GENESIS Board Inker KEYENCE LK-G15 Focus sensor Objectives: 1x, 2x, 3x, 5x and 20x Camera type: ADIMEC 1600M (7.4 um/pixel) Ring light (Dark file illumination) Without robot handling module 2005 vintage.
RUDOLPH/AUGUST NSX 105掩模和晶片检验设备是一种专门的工业设备,设计用于以极高的精度和精确度检查各种掩模和晶片。该系统结合了最新的先进CMOS成像技术和先进的光学设计,提供了卓越的检测样品图像质量。AUGUST NSX-105 Mask&Wafer Inspection Unit的独特设计确保了对缺陷的mask、wafer和标线的快速准确的自动测量,使其非常适合用于最严格的质量控制和测试标准。RUDOLPH NSX 105 Mask&Wafer Inspection Machine内置了一个专利超对比度超敏(UCH)成像模块,能够增强检查样品的图像对比度以提高清晰度和分辨率。此外,该资产还有一个高分辨率成像工具,能够对掩模和晶圆图像进行在线检查。此外,NSX 105掩模和晶圆检验模型还配备了微型分配设备,能够以受控方式自动向样品表面分发感光材料。这种微分配系统保证了大尺寸、各种形状的样品可以快速准确地进行检测。RUDOLPH/AUGUST NSX-105 Mask&Wafer检查组还采用了高级图像处理和软件算法,用于高密度缺陷检测和分析。这些算法基于傅立叶分析和其他现代测量技术,它们能够以最高的精度捕捉检查中最微小的变化。此外,机器还能够检测和纠正错误,如图桉不对齐或几何变形。此外,RUDOLPH/AUGUST NSX 105掩模和晶圆检查工具设计用于极端环境条件,如低温或高温、湿度和碎屑。它还能够高速执行缺陷检查,并为极端环境条件配备了广泛的光学滤镜和光源。该资产还具有集成的报告生成工具,用于创建缺陷检查的详细报告,以及图形用户界面(GUI),以便于操作。该模型的设计成本效益高,运行成本低,同时提供卓越的性能和可靠的结果。总体而言,RUDOLPH NSX 105面膜晶片检验设备是在各个行业进行高精度面膜和晶片检验的强大而可靠的工具。它是任何企业在检查过程中重视准确性、精确度和生产率的必备产品。
还没有评论