二手 RUDOLPH / AUGUST NSX 90 #9175960 待售

RUDOLPH/AUGUST NSX 90掩模和晶片检查设备设计用于检测、隔离和测量半导体器件上存在的关键缺陷。该系统由一台最先进的远程中心显微镜、一个精密晶圆级和四台摄像机组成，包括两台高分辨率CCD摄像机和两台红外探测器。该设备能够扫描放大倍数范围内的大面积区域,从而实现覆盖整个晶片表面的高级检查功能。使用高分辨率CCD相机，AUGUST NSX 90能够检测和隔离极小的缺陷，如断线、模具裂纹和多孔，精度和精度都很高。该机还具有自动光学识别工具，利用专有算法准确定位和分类缺陷。一旦发现缺陷,资产就可以使用CCD摄像机生成缺陷的结构、大小、形状和晶圆位置的详细图片。RUDOLPH NSX-90 Mask&Wafer Inspection Model设计为使用两个红外探测器执行先进的多参数检测。该设备能够对微粒和污染物进行准确、精确的检测和分类。利用复杂的算法，系统能够识别复杂的粒子并按大小、材料类型和其他光学参数进行分类。此外,该单元还可以利用其板载图像处理和分析功能检测和隔离关键缺陷和屈服限制性颗粒。此外,NSX-90 Mask&Wafer Inspection Machine可以提供扫描完成后缺陷性能的详细分析。高级图像分析工具计算平均缺陷大小、缺陷密度和屈服。该资产还能够计算平均粒径、3D地形和缺陷掩码。该模型还可以自动生成详细的测量报告，使工程师能够快速准确地分析其检查结果。NSX 90 Mask&Wafer Inspection Equipment是半导体工业必不可少的工具。通过使用先进的成像、分析和报告工具提供详细而准确的检查功能,系统确保工程师掌握开发和改进其半导体器件制造过程所需的信息。