二手 SDI CMS III-A #9045538 待售

SDI CMS III-A是一种用于晶圆和半导体掩模模式高速、高通量分析的掩模和晶圆检测设备。该系统采用最先进的自动扫描设备,分辨率为250 nm,用于测量和评估晶片和掩模上的结构以进行缺陷分析。它的检查能力为用户提供了一种快速、准确、可重现的检查，可以检测和分析各种类型的缺陷，包括光刻错误、稀薄的口罩、通过特征丢失以及污染。该机器由四个主要组件组成：光源、照明晶片、图像传感器和连接到显示器的计算机。光源是两种紫外线激光器的组合，可提供精确成像的单色照明；一种液晶显示器，可最佳地引导激光，并最大限度地减少设备受到辐射热的照射；一种衍射光学元件（DOE），它增加了工具的视野，减少了分析所需的图像数量。照明晶片放置在液晶屏上方，使目标结构暴露于激光，然后由CMOS图像传感器检测到。图像传感器能够解析小至250 nm的结构,并对图像进行采样并将其发送到计算机进行分析。资产中的复杂处理算法允许在几秒钟内捕获和分析图像。它旨在检测任何类型的缺陷，包括缺失特征、结构不规范、划痕、污染等等；并生成全面的报告,以便工程师能够快速排除任何问题。计算机还连接到显示器,该显示器显示捕获的图像以及模型收集的所有数据。这种掩模和晶片检验设备建议用于半导体行业的任何制造工厂和实验室设置，为用户提供高速、快速、准确地检测晶片和掩模的能力，同时利用高度先进的分析算法检测缺陷。该系统设计易于使用，能够对晶片和掩模结构进行快速、准确的检查和分析。