二手 SDI CMS III-AR #9152693 待售

SDI CMS III-AR是具有先进成像、分析和报告功能的最先进的掩模和晶圆检测设备。利用平均矢量差（AVD）算法，这是一种基于几种不同成像技术的先进检测算法，可以快速检测和定位掩模和晶片上的缺陷。该系统具有一个自上而下的激光投影模块，在直径可达300毫米的掩模或晶圆样品上运行，分辨率为5 µm。设备的成像组件提供了更高的精度和分辨率来检测细微的缺陷，如线宽变化或桥接。通用的分析工具可以检测和纠正缺陷。掩码和晶圆轮廓及迭加配准、自动缺陷形状分析和缺陷种子分析都是内置功能。单元上的舞台能够处理重载，可用于大面积成像。它还结合了高分辨率编码器，以实现更高的舞台定位精度。提供多种配置,最多可配备三个用于RGB成像或多光束激光光源的摄像头,以提高精度。计算机控制的光学机器校准光束和照相机，以获得最佳的成像和测量性能。该工具的软件提供了复杂的图形用户界面,能够比较和同步多个图像和图形。它还支持广泛的数据交换和存储格式。图像分析和报告功能高度可定制,具有可定制的源和模块化分析工具。高级报告功能可为所有类型的缺陷检测和测量提供快速轻松的数据输出。CMS III-AR是一种高度通用的资产,适用于各种生产环境。其独特的功能集提供了在当今先进的生产环境中提高产量的经济高效的方法。凭借其先进的功能,它保证了最佳的工艺性能,并确保了卓越的产品质量。