二手 SEMITEST Epimet II #9104044 待售

SEMITEST Epimet II是由SEMITEST Corporation开发的尖端掩模和晶圆检测设备。这一革命性的新系统旨在为其部门提供最高水平的速度、准确性和敏感性。该单元使用光学耦合信号采集机，以确保明显的光学清晰度。这使Epimet II能够以卓越的速度和精度检查各种形状、大小和厚度的掩模和晶片。使用该工具的深聚焦光学器件,即使在更高的放大倍率下,激光锐利的分辨率也是可以实现的。资产中采用的高级图像分析算法为用户提供了详细的图像，并深入了解了掩码和晶圆缺陷。与传统方法相比，这种方法能够对缺陷进行微观分析，精确度极高。如果需要,可以几种格式导出此分析的输出以进行进一步分析。SEMITEST Epimet II还能够高速扫描大面积的口罩和晶片。这意味着模型可以快速检查大面积区域，并检查污染物、裂缝和其他损坏等任何问题。扫描和分析过程可以自动化，提供一个完全精简的设备，用户输入最少。系统中还装有自动故障检测和警报系统,确保快速识别和标记异常。这意味着可以快速发现任何潜在问题,从而提高流程效率和可靠性。总体而言，Epimet II是一个高度先进和强大的掩模和晶圆检测单元。它的一系列特性和功能为用户提供了无与伦比的速度、准确性和可靠性级别,使其成为任何需要高精度分析的实验室或生产环境的绝佳选择。