二手 SEMITEST Epimet II #9193399 待售

SEMITEST Epimet II是一个功能强大、自动化的掩模和晶片检查系统，旨在快速准确地识别半导体掩模和晶片中的两个缺陷。通过将复杂的图像处理算法与多波长的亮场和暗场成像结合起来，Epimet II提供了对这些关键元素的详细、高分辨率的检查。SEMITEST Epimet II利用附着在精密机械臂上的高清成像传感器，能够扫描整个掩模和晶圆表面。成像传感器在可见光谱、近红外光谱和深紫外光谱中采集亮场和暗场数据。然后，自动手臂穿过一个标本，使系统能够以多种分辨率捕捉数以千计的标本角度视图。总体而言,Epimet II提供了卓越的图像清晰度和对比度,可以准确识别缺陷。立即分析收集到的数据的缺陷级别（包括划痕、空隙和污染物）,并在几秒钟内提供详细结果。用户友好的系统界面允许在生产线上同时检查所有掩码和晶片,并向操作员发出可能发生的任何潜在缺陷的警报。SEMITEST Epimet II是半导体制造商的强大工具，能够显着减少生产时间，同时为每个掩模和晶圆提供高精度检查。通过利用最新的图像分析技术,Epimet II可以自动识别人工过程所需时间的一小部分缺陷。SEMITEST Epimet II具有用户友好的界面和快速的分析时间,可确保每一个掩模和晶片都做好生产准备。