二手 SII NANOTECHNOLOGY / SEIKO XVision 200TB #9240326 待售
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ID: 9240326
Defect inspection system
Triple beam
FIB:
Resolution: 4 nm at 30 kV
Acceleration voltage: 0.5 ~ 30 kV
Maximum probe current: 90 nA
Maximum probe current density: 45A/cm²
Argon:
Resolution: 3 nm at 5 kV
Acceleration voltage: 1 ~ 30 kV
SEM:
Acceleration voltage: 0.5 ~ 1 kV
Maximum beam current: 10 nA
EDS Specification:
AZTec Energy Standard micro-analysis system
With X-MaxN 80 large area analytical silicon drift detector
Hardware includes:
X-MaxN 80 SDD Detector with PentaFET precision
Active area: 80 mm²
Resolution guaranteed on Mn K - 127eV at 50,000 cps
SATW Windows for detection of elements from beryllium
MicsF+ Microscope image capture system
X-Stream 2 Micro-analytical pulse processor
PC
Operating system: Windows 7
Widescreen LCD display, 23"
Aperture: 1
Accelerating voltage: 3 kV
Beam current: ~210 pA
(3) Separate beams:
High resolution FE-SEM imaging
Precision FIB milling
Ultra high resolution TEM imaging:
Low energy Ar polishing to minimize sample damage
FIB-SEM-Ar beams:
Coincident eliminating need for sample movement between beams
FE-SEM Monitoring.
SEIKO X Vision 200TB面膜和晶片检测设备是一种最先进的技术,具有高分辨率、高吞吐量和高精度。该系统非常适合先进的微电子、医疗和平板显示器应用。SII NANOTECHNOLOGY X Vision 200TB单元拥有4000像素分辨率CCD相机和内置的大功率照明机。这允许在所有工作方向上进行高定义的图像捕获,并对任何缺陷和其他特性进行高质量的成像。该工具还具有SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO独有的自动对焦技术,可快速高效地提供准确、高清的图像。这允许用户通过进行现场检查和拒绝来降低成本并提高口罩和晶片的质量。检查资产还具有符合人体工程学的设计和直观的用户界面。这允许高效、方便的工作流。该模型具有强大的图像处理设备，可自动检测和校正掩模和晶片中的缺陷。此外,它还具有高级缺陷库,其中包含多种缺陷类型,以便于检测和分组。SEIKO X Vision 200TB面罩和晶片检查系统以其易于使用的软件和用户友好的命令为最高效率而设计。该单元提供高性能和一系列用于数据分析、报告和归档的强大工具。其先进的缺陷分类功能使其成为数据挖掘和缺陷分类的理想选择。该机配备了一系列可定制的图像增强工具，以提高图桉可见性。它还具有硬拷贝报告和数字存档功能来记录调查结果。此外,SII NANOTECHNOLOGY X Vision 200 TB的可自定义数据分析功能使用户能够快速准确地分析和存档数据。总体而言，SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO X Vision 200TB面罩和晶圆检验工具提供了无与伦比的质量和准确性，可用于可靠的质量保证和电路模式的检验。该资产为满足先进半导体和医疗设备制造工艺的严格公差提供了经济高效的解决方桉。该模型具有很高的分辨率、吞吐量和准确性，非常适合任何复杂的掩模和晶圆检测应用。
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