二手 SVG / PERKIN ELMER / BSL OS 2000 #9162533 待售
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ID: 9162533
晶圆大小: 2"-4"
优质的: 2011
Projection mask aligner, 2"-4"
BETA SQUARED Control system
Single windows based object-oriented computer
BSL Automatic helium regulator
Manuals
Resolution:
Lines spaces: 1.25 µm
UV-4 (340-440 nm)
Throughput: (120) Wafers per hour, 125/100 mm system
Depth of focus: ±6 µm For 1.5 µm Lines and spaces
Focus stability: ±2.0 µm Over 6 days
Focus range: ±200 µm ±450 µm With extended bellows chuck
Partial coherence: Variable, 0.37 - 0.86
Numerical aperture: 0.167
Uniformity of illumination: ±3.0%
Particulate generation:
(7) Particles per wafer pass (1.0 µm / Larger)
Pre-alignment: 600 Style
First-level placement accuracy: ±15 µm
Wafer / Substrate sizes: 2"
Standard: 4"
2011 vintage.
SVG/PERKIN ELMER/BSL OS 2000是一种为工业用途而设计的掩模和晶圆检验设备。该系统执行各种光学测量，如特征和掩模缺陷识别、质量控制和生产监控等等。该单元由几个组件组成，包括显微镜和数码相机、计算机接口、光谱平移阶段和光源。机器的显微镜设计为提供晶圆或掩模的高分辨率、高对比度图像。它配有数码相机，用来捕捉晶圆或掩模的图像并储存在电脑上。用显微镜，可以准确地检测到小的缺陷和特征。光谱平移阶段提供运动，以便可以检查整个晶片或掩模。这样可以更精确地检查大面积区域,并更好地比较不同的图像。光源在分析过程中照亮晶片和掩模，从而获得高对比度图像。计算机界面允许在分析之前将数据导入SVG OS 2000。这允许图像比较和自动缺陷检测和分类。软件中加载了各种工具来帮助处理过程，例如用于比较多个图像的直方图、自动缺陷检测算法以及用于分析的各种其他工具。使用此软件,可以确保准确性和速度。最后，该工具可以连接到各种其他的SVG仪器以获得额外的功能。这些包括FIBs（聚焦离子束显微镜）、CVD/PVD系统（化学气和物理气相沉积系统）以及清洁工具。所有这些都可以用来确保表面均匀并检测晶圆或掩模上可能存在的任何缺陷。BSL OS 2000是执行高分辨率掩码和晶圆检查的综合资产。它非常容易使用，可以适应许多不同的工业和研究要求。该模型具有强大的显微镜、光源、光谱平移阶段、数码相机和软件，能够快速、准确地检测出众多缺陷和特征。
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