二手 VISTEC LWM9000 #293589506 待售

VISTEC LWM9000是一种综合性的掩模和晶片检查设备,设计用于生产和实验室环境中的光掩模或大型晶片的自动化分析。凭借其创新的光头设计，LWM9000掩模和晶圆检测系统能够提供高达0.35微米的分辨率，从而能够对关键特征进行详细的分析和测量。该设备采用先进的成像技术来识别蒙版和晶片表面的缺陷、变形和其他异常。VISTEC LWM9000配备了三个光学传感器--CD-SEM（扫描电子显微镜）、CD-AFM（原子力显微镜）和分层单原子计量--它们可以高精度地集体评估掩模和晶圆模式。对于CD-SEM成像，该设备能够获得三种不同放大倍数的图像，范围从0.25到0.35微米。CD-AFM功能提供了对薄膜、导体结构和半导体层的快速准确的测量。分层的单原子计量功能允许用户以超过90%的精度检测结构上尽可能小的结构。LWM9000提供了可扩展的用户定义的光掩码模式,并包括直观的图形用户界面。这样可以快速准确地测量和集成特定于客户的模拟和掩码布局数据。该设备还提供用于快速聚焦定位的自动化阶段控制,从而能够快速高效地分析大型或分段数据集。它具有自动运动多功能性,允许对掩模或晶片进行多次定位和连续扫描,甚至在平面内或跨多个平面进行扫描。VISTEC LWM9000为用户和开发人员提供了功能强大但易于使用的软件。该软件为生产和实验室检查提供了一个通用和用户友好的环境，允许用户定制机器并执行自动对准检查和采购。它还提供专家注释、修补程序分析以及高级脚本命令和批处理功能,从而提供高效、准确的操作。此外，该设备还有一个集成数据库，允许用户存储、检索和比较掩码和晶圆数据。总之，LWM9000是一种先进的检测工具，采用最新的成像和计量技术设计。它是生产和实验室用途的绝佳选择,提供先进的成像能力和自动化功能,可快速准确地分析光掩模或晶片。该设备还具有高度的用户友好性,允许对大型或分段数据集进行自定义和专家分析。