二手 XENOGEN IVIS 200 #141433 待售

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製造商
XENOGEN
模型
IVIS 200
ID: 141433
Imaging system Imaging pixels: 2048 x 2048 Quantum efficiency: >85% 500-700 nm; >50% 350-950 nm Pixel size: >13.5 µm square Minimum detectable radiance: Minimum image pixel resolution: 60 µm (at f/1) Read Noise: Dark Current (typical): Filter Slots: Fluorescence excitation 25 mm diameter 12-position (11-filter capacity) Fluorescence emission 60 mm diameter 24-position (22-filter capacity) Stage temperature: Ambient to 40°C scanning laser.
XENOGEN IVIS 200是一种用于生产级半导体制造和材料表征的掩模和晶圆检测设备。它采用无失真光学、舞台安装自上而下的成像系统,可提供高达200倍的放大倍率。该单元的变焦光学支持高长宽比、非常小的临界尺寸和超低缺陷级别的测量。此外,IVIS 200还将最新的成像技术和自动化的过程控制集成到一台易于使用的机器中。XENOGEN IVIS 200具有高达200毫米的全场测量范围,正常场大小为50毫米。它的高分辨率LED照明还允许整个领域清晰的清晰度和图像的均匀性。IVIS 200能够以高达50纳米的分辨率捕获图像,轻松解决缺陷和更精细的结构。该工具支持多种成像模式,包括亮场、暗场、边缘检测、倾斜照明和光学复制。XENOGEN IVIS 200还加入了先进的图像处理软件,这有助于识别和测量制造商指定的图样缺陷。资产可以自动识别这些缺陷,从而可以在自动测试程序中使用。此外,IVIS 200包括一个健壮的自动化模型,为多阶段过程控制、吞吐量优化和动态故障检测提供支持。此自动化功能可降低制造成本并提高产量和吞吐量。最后,XENOGEN IVIS 200附带了一套完善的先进软件功能,以提高测量精度和控制。这些功能包括图像捕获配置文件、图像识别设置、数据分析统计信息、自动化过程控制和报告功能。软件可配置为提供定制的结果,可用于质量控制和改进目的。用户界面直观且配置性强,设备兼容多种语言选项,包括英语、中文、日语和韩语。综上所述,IVIS 200是一种先进的掩模和晶圆检测系统,旨在改进半导体的制造和材料特性。它具有一个无失真的光学、舞台安装的自上而下的成像单元,能够捕捉分辨率高达50纳米的图像。它还包括用于优化吞吐量和检测故障的高级图像处理软件和强大的自动化功能。该机有助于提高半导体生产质量控制,提高生产效率。
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