二手 ZEISS AIMS Fab 193 Immersion #9221855 待售
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ID: 9221855
晶圆大小: 6"
优质的: 2005
System, 6"
Laser to be replaced
Laser gas manifold to be replaced
2005 vintage.
ZEISS AIMS Fab 193 Immersion是一款先进的高级面罩和晶圆检测设备。它使用193nm浸入式ArF激光源，能够检测直径达200 mm的晶片，最大晶片曝光量为16mm。其先进的图像处理算法能够快速准确地分析各种材料和光掩模缺陷的设备性能。AIMS Fab 193 Immersion包含了几个特性，使得它在晶圆检测市场上无与伦比。其最大256 kV的加速电压，使得设备特性的纳米分辨率高度精确成像。它还能够以64X放大倍数和详细的基于模式的计量来查看密集的线型。此外,它的深度聚焦（Defth Of Focus, DOF）技术允许在同一层的不同深度对晶片进行检查,从而更深入地了解设备结构。除了先进的成像能力外，蔡司AIMS Fab 193 Immersion还提供强大的工艺控制功能。通过其软件界面，用户可以控制系统的曝光时间、聚焦深度、加速电压等过程参数。此外，它的单元内3 D自动对焦算法允许机器对焦于不同的目标层。AIMS Fab 193 Inmersion将这一自动聚焦功能与其最先进的图像处理算法相结合,快速准确地定位了产品中的缺陷和异常。最后,ZEISS AIMS Fab 193浸入式工具的设计考虑到了易用性。其巨大的查看屏幕使用户界面的导航更加方便,示例的可见性也更高。其触摸屏控制面板支持用户定义算法、模式匹配和实时成像等高级功能，可快速高效检查。总体而言,AIMS Fab 193浸入式资产提供无与伦比的图像分辨率、先进的过程控制功能和易用性。它的特点使得它非常适合以高精度检查晶片和光掩模，同时提供对设备性能的全面洞察。
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