二手 ZEISS / HSEB ZML-200 #9249419 待售

ZEISS/HSEB ZML-200是业界领先的口罩晶片检测设备,在半导体器件制造这一具有挑战性的领域提供卓越的性能。系统每小时吞吐量高达200晶圆,可有效地处理大批量生产运行的检查。HSEB ZML-200利用高分辨率CCD摄像机扫描每一个掩模或晶片，寻找制造过程中可能没有注意到的任何缺陷。利用内置缺陷检测算法和自定义的用户界面，该设备可以快速识别屏蔽或晶片中最小的缺陷。该机器还被设计为易于使用和快速行动，允许用户对被检查的掩模或晶片进行快速准确的诊断。为进一步提高刀具的速度和精度，该资产配备了先进的高精度对焦控制模型。这种设备快速专注于掩模或晶片的任何特性，允许快速的点对点或区域对区域的检查。该系统还具有测试多种半导体器件配方的能力，以确保最大产品产量。通过监视复杂的金属和绝缘层网络,设备能够检测到各种缺陷,包括线宽变化、短裤、打开、隔离缺陷和覆盖。该机器还具有许多自检功能,确保任何维护工作都能正确完成。最后，蔡司ZML-200配备了众多的软件选项，允许用户自定义其操作。利用内置缺陷分析软件，用户可以记录和存储检查中的数据。此外,该工具还配备了模式识别优化软件,以便资产能够根据用户输入不断地学习和修改其筛选设置。总之,ZML-200是一种业界领先的面膜和晶片检验模型,旨在最大程度地提高生产产量、降低成本并减少用于面膜或晶片检验的时间。ZEISS/HSEB ZML-200具有高分辨率CCD成像、定制的用户界面以及尖端缺陷分析和模式识别优化软件等顶级功能,是任何半导体器件制造设施的理想选择。