二手 ZEISS / HSEB ZML-200 #9249420 待售

ZEISS/HSEB ZML-200是一种用于精密掩模和晶片检测的掩模和晶片检测设备。它利用光学元件和弯曲标线之间的独特间隙来实现精确对准和出色的图像分辨率。HSEB ZML-200通过业界领先的暗场传感器模块和专利算法提供高速和高分辨率成像,使其能够检测和测量太小而无法通过其他检查系统看到的缺陷。该系统由一个标线、一个暗场成像相机和一个光源组成。标线由一个中央环和两个连接到可调标线支架的可调臂组成。这允许用户精确配置检测光学器件的位置，以确保高质量的图像。暗场成像相机配有一个外部CCD图像传感器和一个内部视场，允许对测试的掩模或晶片进行广泛的观察。这使得设备能够检测到最小的缺陷。该光源采用荧光和紫外线照明的独特组合，设计用于最大程度的照明。这样可以确保整个区域的照明均匀,同时提供均匀且最佳的亮度。此外,特殊的数字成像功能允许机器捕获甚至最复杂的细节,例如低于人眼阈值的缺陷。蔡司ZML-200可以检查各种口罩和晶片。它可以用于各种检查类型，如光罩、晶圆和临界尺寸（CD）测量。该工具配备了必要的软件，以协助用户进行检查过程和数据收集。该资产与直观的软件界面非常容易使用，其直观的用户界面允许对数据进行高效的分析和解读。ZML-200是进行掩模和晶片检查的理想工具。该模型提供了无与伦比的精确度、高速和精确的成像，以及用于有效缺陷检测的复杂算法。其直观的用户界面和先进的软件工具使其成为一种可靠、高效的掩模和晶圆检测工具。