二手 OXFORD VG 80H #9173169 待售

OXFORD VG 80H是一种全自动分子束外延设备,为受控厚度、高质量的III-V和II-VI材料的沉积提供了极大的灵活性。VG 80H提供两个独立的磁头，用于沉积多达四层材料的层，以及用于外延生长的高清沉积参数。该系统与坞站完全集成，用于安装和工艺开发，为用户提供直接进入沉积室和保护环境的通道。OXFORD VG 80H的沉积源是基于脉冲电子束源（PEB），使得广泛的生长参数可以选择，而不会影响表面形态。PEB源具有可调的脉冲振幅、重复率和频率，使得控制离子密度和停留时间创造先进结构成为可能。氮和砷喷枪系统对沉积层的组成提供了先进的控制。可以达到高达1000 °C的温度，允许许多先进的处理技术，如成长渐变或超级晶格结构。这两个磁头为用户提供了探索材料和工艺设计的灵活性，以确保实现最佳的薄膜沉积。VG 80H有一个计算机控制的材料沉积自动化单元，允许精确控制外延膜的生长参数。自动化机器为用户提供了以不同厚度和密度生长多层不同材料的灵活性。自动化生长工具还允许通过主动控制氮和砷枪进行掺杂，使使用者能够控制原位掺杂，从而控制薄膜的电性能。该资产还通过原位反射高能电子衍射（RHEED）对薄膜成分和质量进行先进的监测。这为预期和实际增长结果提供了稳定性和反馈。随着时间的推移,可以查看来自探测器的数据,以确保可以跟踪和优化过程中的变化。OXFORD VG 80H设计可靠且无维护。它具有先进的技术设计，是用于研究和工业环境的可靠模型。这使得它非常适合生产先进的III-V和II-VI材料生长。