二手 OXFORD / VG SEMICON V100 #9036615 待售
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已售出
ID: 9036615
晶圆大小: 5x3"
优质的: 2010
3-Stage Molecular Beam Epitaxy (MBE) System
Currently configured for 5x3" wafers
Other capabilities : 1x6", 3x4", 5x3" or 12x2" substrate wafers at a time
CBr4 Source
Deposition chamber
Preparation chamber with (2) fast entry locks
Outgas stage
System bench
Control rack
Computers
Custom control software or OEM
Control Rack Modules
UHV Pressure Controllers
Shutter Controls
Valve Controls
Transfer Controls,
Pumpdown / Vent Controls
RHEED Gun Supply
RGA and temperature monitoring
4- Loop Thyristors
UPS Interface
Multi-Gauge,
Autoranging Picoammeters
(1) SRS RGA200 Quadruple Mass Spectrometer
(1) Applied Epi RF Plasma Source Tuning Unit
(3) Powerware Prestige EXT UPS Supplies
(1) Neslab CFT-150 Recirculator
(1) CTI 9600 Compressor
(3) Busch Diaphragm Pumps
(4) Heavy-Duty Transformers
Liquid Nitrogen System Components
Continuous power supply battery back up
LN2 phase separator
Controllers
Pumps
Manuals
415V, 50/60Hz.
OXFORD/VG SEMICON V100是一种精密的分子束外延（MBE）设备，设计用于先进的薄膜沉积工艺。利用高真空、低压、超高真空技术，结合应用特异性工艺技术的高可靠性主机。OXFORD V 100提供了一系列的工艺能力，例如扩展的面积阵列工艺、传导层增长工艺和高质量的表面饰面。这些过程基于分子束外延技术，在超高真空室中，所需材料的薄膜沉积在基板上。加热到适当温度的底物暴露于使用高强度电子束和其他源蒸发的前体分子的入射束中。VG SEMICON V 100提供了两个隔离的超高真空室，以实现可靠和可重复的工艺均匀性，两者均配有不同组的工艺模块，以确保对所需参数如沉积速率、背景压力、基板温度等的最佳控制。它还具有电气模块、加热模块和强大的热电偶模块，以准确监测和调节室内的温度均匀性。V100具有许多高级流程控制功能。这包括一个多气体注入系统，允许以高度控制的方式为各种气体输送多种气体，对气体进行自动流动控制，控制电子束的强度和大小，以及一系列过程参数，以准确监测过程启动、稳定和终止过程。OXFORD/VG SEMICON V100是需要高精度、先进和可靠的薄膜沉积MBE单元的用户的理想选择。这台机器的特点允许扩大应用范围，例如半导体生产、药物和生物技术生产、先进的电子、光电、平板显示器等。OXFORD V 100提供的强化工艺控制确保了绝对高质量薄膜的可靠和可重复沉积。
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