二手 RIBER 2300 #9246157 待售

製造商
RIBER
模型
2300
ID: 9246157
Molecular Beam Epitaxy (MBE) system Configured for GaAs.
分子束外延(MBE)是一种在基板上沉积薄膜的技术。在这种方法中,一个样品在室温下被气体种类的分子束(如III和V族元素)轰击,以沉积一层材料的薄膜,并具有非常高的控制度。RIBER 2300 MBE设备是一种高性能的薄膜沉积工具,用于生产具有精确控制的组成、厚度和晶格结构的外延层和纳米结构。2300有一个模块化的设计,以最多4个积液池、2个四蒸发器和一个离子源的群集为基础,位于装有可移动晶片支架的基腔周围。它还具有闭环冷却系统,为样品提供均匀的温度,确保沉积条件保持稳定。MBE系统中产生的高温要求软件控制,可以处理高达1500C的温度。RIBER 2300配备了多通道数字温度控制器,能够控制多达10个区域,加热速率高达每秒50C。这确保了控制温度过程的最高精度。再者,2300还配备了独特的电阻加热基板支架、原始的俄歇电子分析仪、电等离子体辅助源和高压分子束源。这些功能实现了操作灵活性,使RIBER 2300成为半导体结构、磁性隧道连接和高级超材料MBE增长的强大工具。2300还具有高度符合人体工程学的设计,使用户可以轻松直观地控制沉积参数。该装置配有直观的软件,可直接与机器接口,并能够实时监测和控制沉积过程。图形用户界面(GUI)允许快速、轻松的用户交互,同时提供可信的信息以成功操作。RIBER 2300是研究人员寻找通用、可靠、高性能MBE工具的理想选择。它提供了沉积参数的精确控制和沉积过程的实时监控,从而实现了精确、可重复的薄膜沉积。
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