二手 RIBER 32 #9281944 待售

分子束外延（MBE）是一种真空沉积技术，能够对薄膜生长进行极其精确的物理和化学控制。RIBER 32 MBE设备是一种多源先进的MBE系统，设计用于生长砷、磷、氮化氙等III-V半导体化合物。该装置具有高功率射频等离子体源、多气体喷射器、原位角分辨率XPS分析仪、原位镜AR装置和差分泵浦四掩模MBE室。32是用装有四等离子源和八个快门气体端口的四掩模MBE室建造的。每个石英炉都有一个独立的气流机，用于高效的溷合，让你从一个炉到另一个炉控制薄膜的组成和厚度。这样就可以在一个步骤中增长不同的材料层,而不必停止刀具。此外，它还配备了一个原位角度分辨率X射线光电子光谱分析仪，用于监测薄膜生长过程中材料的成分。资产中包含的射频等离子体源是一种单源射频发生器，可用于精确调谐高等离子体密度。原位反射镜AR单元提供了实时测量生长薄膜的反射率和折射率等光学特性的能力。该模型还采用了新开发的差动抽水设备，可用于保持系统中的高清洁度，同时实现高效的气体流动。RIBER 32还包括一个功能强大的数据控制单元，使用户能够实时监视机器中的所有进程。具有同时控制快门阀、流量、温度和多个气源的能力，便于精确控制薄膜的生长。该工具还具有高效的通信资产,可实现远程监控。总而言之,32提供了高度先进的MBE模型,具有一系列功能,可实现精确的薄膜增长。易于操作和可靠的性能使其成为工业应用的理想选择。