二手 RIBER 49 #9307797 待售

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製造商
RIBER
模型
49
ID: 9307797
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
Molecular beam epitaxy system, 8" Materials: Indium, GaAs, Aluminum Operated with programmable shutter controller Max substrate temperature: 1000°C Manipulator: LN2 Cooled As and Sb Crackers included (16) Supplies for cells (3) Prep chamber heater and manipulator (3-4) Spare controllers (2) Ports: 3"-6" 7"-8" 2001 vintage.
分子束外延(,MBE)是一种用于在基板表面上生长化合物或原子层,以形成具有电子和光电性质的高质量界面的技术。RIBER 49是一种最先进的MBE设备,旨在以多用途和经济高效的方式生产高质量的外延层。该系统具有多源沉积能力,能够从多达10个独立的来源沉积各种材料。这允许沉积非常复杂的材料,如复杂的合金,超晶格和纳米结构。该机组配备了一系列源,包括用于快速沉积的高效源、用于高温沉积的电子回旋共振源、用于超高真空沉积的超低压源。此外,49能够在一定范围的基板温度下运行,从而可以优化晶格匹配和更复杂的生长技术。该机配备了实时监控工具,可实时进行温度压力控制和工艺参数优化。为保证生长质量,样品室配备了先进的气体注入资产,能够引入超纯气体进行高温生长。这样可以更好地控制表面氧化和其他环境影响。此外,该模型还配备了一系列诊断工具,如光学显微镜、楔形裂解剖面仪、二次离子质谱和扫描电子微观。这些可用于监测生长,从而能够实时增强沉积参数。RIBER 49允许超高质量外延层极精确的沉积。它提供高性能、灵活性和成本效益,非常适合研究实验室和大学。49具有广泛的特性和功能,可用于各种研究和制造应用,并可为各种应用需求提供无与伦比的增长质量。
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