二手 RIBER 49 #9395706 待售

製造商
RIBER
模型
49
ID: 9395706
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
Molecular beam epitaxy system, 8" Materials: Indium, GaAs, Aluminum Operated with programmable shutter controller Max substrate temperature: 1000°C Manipulator: LN2 Cooled As and Sb Crackers included (16) Supplies for cells (3) Prep chamber heater and manipulator (3-4) Spare controllers (2) Ports: 3"-6" 7"-8" 2001 vintage.
RIBER 49是由RIBER SAS製造的分子束外延(MBE)设备。MBE是一种在微观水平上在受控大气中生产高质量单晶薄膜的方法。它被用于半导体和光电工业,用于生产各种材料,如硅、砷化氙、氮化氙和磷化铵。另外,49可以用于制造石墨烯、过渡金属氧化物和量子点。RIBER 49由四个主要部件组成:超高真空室、超高真空站、电子束蒸发器和生长监测器。特高压腔室设计为以1x10-9 torr的真空压力运行。这为形成单晶提供了非常干净的环境,并消除了空气和大气中其他分子的污染。UHVS是容纳所有系统组件的主要控制单元,便于进入腔室进行样品处理。电子束蒸发器用于控制原料在基板上的沉积速率,减少离轴扩散。最后,生长监测器提供了晶体生长过程的实时数据,如超高压腔室的压力、运动和温度。49与其他MBE系统相比非常高效和经济高效,因为它可以在一小部分时间内生产出高质量的薄膜。此外,UHVS在UHV腔室内提供精确的压力控制和温度调节,同时还为用户提供强大的显示和可靠的控制单元。RIBER 49可以加工直径最大为4英寸的基板,可以容纳多种配置和控制设计。该机适应性强,可用于制造多种材料和结构。最后,49的内置软件提供了一个易于使用的界面,允许用户实时监控晶体生长过程的数据。总之,RIBER 49是在受控环境下生产单晶薄膜的高效、经济高效的工具。它非常适合半导体和光电工业,可用于制造各种材料。此外,内置软件还提供了包含实时数据的直观界面,从而可以精确控制整个过程。
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