二手 RIBER Compact 21 #9263066 待售

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製造商
RIBER
模型
Compact 21
ID: 9263066
Epitaxial reactor R&D System, 10-Port P/N: 608-405-32 W HP / HEWLETT-PACKARD Z840 PC ADVANTECH 610H Industrial computer MOBILE PANEL Hand held controller Bakeout control unit (2) VEECO AT6VSP Plasma sources Pump: AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT TwisTorr 304 FS Turbo pump RIBER Ion pump BROOKS / CTI CRYOGENICS Cryo-Torr High vacuum pump BROOKS / CTI CRYOGENICS 8220 Compressor THERMO SCIENTIFIC NESLAB III Heat exchanger ADIXEN Vacuum pump with MicroTorr 11 Vacuum (3) GRANVILLE / PHILLIPS / BROOKS AUTOMATION 350 Ionization gauge controllers (10) TDK / LAMBDA Uninterruptible Power Supplies (UPS) GAMMA Vacuum digital pump Power supply: VEECO RF 600 Power supply VEECO RF 601 Power supply (2) VEECO RF Matching network controllers RHEED Power supply LAKESHORE Temperature controller FRANKLIN ELECTRIC 1201006416 Scroll pump.
RIBER Compact 21 Molecular Beam Epitaxy equipment is a specialized pired of apparatures designed for the deposition of thin-films in a very control environment.该系统是一种小巧、低成本的机器,允许单层或多层薄膜沉积。它设计用于超高真空和高压处理环境。紧凑型21具有多项先进技术,使其能够获得高质量的薄膜。其中包括光学抛光基板、易于操作的用户界面、高度可靠的薄膜沉积控制器和易于使用的激光干涉仪。该机还装有气体汽化装置和温度控制装置,以确保最佳沉积速率和薄膜均匀性。RIBER Compact 21能够在一个沉积步骤中产生多达八个单层薄膜。它具有沉积有机和无机薄膜以及合金和氧化物的能力。机器还配备了沉积速率监视器,使用户能够确保达到他们想要的沉积速率。该机还包括两个2.4V电源和两个供暖组件的24V电源。这些也可以从中央控制器进行控制,从而使用户能够轻松地对所需的温度配置文件进行编程。总体而言,Compact 21分子束外延工具是寻求薄膜沉积的紧凑、低成本解决方桉的研究人员和制造商的绝佳选择。该资产为用户提供了生产其所需规格中质量和准确性最高的货物的能力。
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