二手 RIBER / SEMICON VG80-H #293818636 待售

ID: 293818636
Dual chamber Molecular Beam Epitaxy (MBE) system Electronic cabinets.
RIBER/SEMICON VG80-H是一种最先进的分子束外延(MBE)设备,用于半导体器件制造中各种材料的外延层的精确生长。该系统提供先进的特性和功能,使其成为研发实验室和半导体制造设施的首选。RIBER VG80-H单元配备了多个超高真空(UHV)腔室,为外延生长过程提供受控环境。机器由几个关键部件组成,包括用于蒸发源材料的积液池、用于精确定位基板的基板支架,以及用于实时分析生长过程的现场监测工具。SEMICON VG80-H工具的显着特点之一是其高度自动化和精确控制。该资产配备了先进的软件和硬件组件,允许使用子单层控制对薄膜层进行精确沉积。这种精度水平对于制造具有特定光学、电气和结构特性的复杂半导体结构至关重要。VG80-H模型中的积液池被设计用来加热和蒸发固态源材料,例如铵、砷、氙和铝。这些电池在高温下工作,由精密的温度控制器控制,以确保蒸发原子在基板表面的稳定和均匀通量。精确控制通量对于实现所需的外延层组成和厚度至关重要。RIBER/SEMICON VG80-H设备中的基板支架为外延生长过程中的半导体晶片定位和加热提供了一个稳定的平台。支架配有温度传感器和加热器,可精确控制基板温度。将基板保持在最佳温度对控制外延层的结晶结构和质量至关重要。集成到RIBER VG80-H系统中的现场监测工具能够实时描述增长过程。反射高能电子衍射(RHEED)和光谱椭圆偏振法等技术可以提供关于生长薄膜的表面结构、厚度和光学性质的宝贵信息。这种实时反馈使操作员能够调整增长参数,并针对所需的材料属性优化外延增长过程。SEMICON VG80-H单元还配备了综合安全机器,以确保MBE工艺的可靠高效运行。该工具包括互锁、压力传感器和防止设备损坏并确保操作人员使用资产安全的热保护机制。总体而言,VG80-H MBE模型是一个通用可靠的平台,可用于各种半导体应用的高质量外延层的增长。其先进的功能、精确的控制能力和实时监控工具使其成为寻求为下一代电子产品开发创新材料和设备的研究机构和半导体公司的理想选择。
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