二手 VARIAN / VEECO GEN II #9257205 待售
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ID: 9257205
MBE System
Main chamber
Loadlock
Wafer transfer module
Cryo pump lg
Cryo pump compressor
Wafer trolley
Rod, main chamber, trolley wafer load / Unload
Control rack
Cryo pump SM load lock
Ion source gun
Rod, loadlock, trolley wafer load / Unload
(2) Loadlock cryo pump stands
Variable power supply
Main chamber gate valve poppet assy
Controller, Ion vacuum gauge
Spool piece for trolley
Cables and chamber end mount
(5) Cable tray assemblies
(2) Tracks and trolleys
Misc items:
Bellows
Trolley
Wafer grippers.
VARIAN/VEECO GEN II是一种分子束外延（MBE）设备，用于制造半导体器件。这个系统利用高真空环境，创造出一束可以操纵的粒子束，产生极薄的半导体材料层。该单元可用于创建小的、精确的层，用于建造晶体管和太阳能电池等设备。VEECO GEN II由组成，一个包含两个大型沉积源的大型机结构，也称为积液池。这些细胞用于创建分子束，用于将一层材料沉积到基材表面上（被涂覆的物体）。沉积源可以加热到非常高的温度，以产生高温分子的光束。VARIAN GEN II拥有一台运行涡轮分子泵的泵机，使主机内部的真空保持在非常低的水平（小于10-6 mbar）。这是保证沉积材料良好均匀性的一个重要特点。该工具还由光束转向机构、快门、控制器、枪叶片等其他几个部件组成；所有这些都被用来帮助操纵分子束并将其指向所需的底物。枪叶片使资产达到所需的定向角度。快门控制光束的速度，可以调整以改变沉积速度。该型号还配备了电脑化的监控站。该站用于监测大型机内部的状况，如真空水平和沉积源的温度。该站还具备控制光束流量、沉积源加热水平、光束快门速度等设备参数的能力。GEN II是精细、小、精密的半导体材料层制造的完美系统。该单元的灵活性及其快速沉积速率使其能够创造出很少纳米厚的层。这些层的精度和质量是当今使用的现代半导体器件建设成功的关键。
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