二手 VEECO Gen II #293773662 待售

製造商
VEECO
模型
Gen II
ID: 293773662
晶圆大小: 3"
优质的: 1982
Molecular Beam Epitaxy (MBE) system, 3" Materials: Al, Ga, In, GaTe, Be, As, Sb Auxiliary chamber Growth chamber: (2) Shrouds / 8-Cell ports Manual wafer transfer Manual valve Load Lock chamber Water cooled manipulator with heater, 3" (8) Effusion cells, 2" (4) Upward looking effusion cells InALGaAs with Si / Be (3) Ion pumps (2) Cracker Cells (2) Automated valve positioners (2) Ion pumps / Controllers (3) Sorption pumps QMS 6-Wafer load lock O2 Plasma source Cracker cells: H2S, H2S3 EUROTHERM Temperature controller PC 1982 vintage.
VEECO Gen II分子束外延(MBE)设备是一种先进的薄膜沉积工具,设计用于复合半导体材料的外延生长,具有高精度、纯度和控制能力。MBE是半导体器件制造的一项关键技术,它能够以原子级的精确度生长出薄薄的材料层。第二代系统是VEECO Instruments Inc.开发的第二代MBE系统,VEECO Instruments Inc.是先进薄膜沉积和测量解决方桉的领先供应商。VEECO Gen II在最初的Gen I单元成功的基础上,为前沿的研究和生产应用程序提供了增强的性能、先进的功能和更高的可靠性。第二代机器的一个主要特点是超高真空(UHV)环境中外延生长过程的发生。特高压环境对于尽量减少杂质和污染物的存在,确保沉积薄膜的高纯度至关重要。该工具配备了先进的抽水设备,包括冷冻泵和离子泵,以达到和维持MBE工艺所需的真空水平。VEECO Gen II模型还具有高温积液池的特点,用于蒸发元素源如砷、​​零、的、的。这些元素源以固态棒或粉末的形式供应,在积液池中加热,产生原子的分子束,在基板表面凝结形成外延层。可以精确控制积液池温度,调节材料通量,优化特定材料组合和层结构的生长条件。此外,第二代设备还配备了多个百叶窗和光束通量监测器,用于控制外延层的沉积速率和厚度。百叶窗用来有选择地阻挡或允许分子光束到达底物,从而能够精确控制生长过程。光束通量监测器对沉积物料的通量和均匀性提供实时反馈,从而对生长参数进行准确的监测和调整。除了先进的沉积功能外,VEECO Gen II系统还具有一个全面的控制和监控单元,允许用户轻松创建和执行复杂的增长配方。该机配备了一个用户友好的界面,用于编程增长序列,设置沉积参数,实时监控关键过程变量。先进的软件算法能够自动优化增长条件,以实现所需的材料属性和设备性能。总体而言,第二代分子束外延工具代表了研究人员和设备制造商的一个最先进的工具,他们寻求开发高质量的半导体材料和设备,对材料组成、层厚度和晶体质量进行精确控制。其先进的特性、高可靠性和用户友好的界面,使其成为纳米技术、光电、半导体器件工程等领域广泛研究和生产应用的宝贵资产。
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