二手 VEECO Molecular Beam Epitaxy (MBE) system #293800242 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 293800242
UHV Cluster tool, 6"
(4) Ports for E-Beam
Atom source
RHEED
Materials: Li, Co, O, Si, Ni, Mn
Sputters: LiPON, Pt, Ti, AlO, AlN, Al
Chambers:
Linear sputtering
Pre-clean
Storage
Load lock.
VEECO分子束外延(MBE)设备是在材料科学和半导体研究领域使用的一种前沿工具,用于原子精度的薄膜的精确生长。这种先进的分子束外延系统为研究人员提供了在原子水平上沉积对厚度、组成和结晶结构有特殊控制的薄膜的能力。VEECO MBE单元是一个精密多用途的平台,使各种半导体材料和异质结构的增长具有高精度和可重复性。VEECO MBE机的核心是一个高真空室,配有多个积液池、电子束蒸发器和其他沉积源,用于将不同元素的原子或分子供应到加热的基板上。此过程允许创建具有明确的界面和受控的逐层增长的薄膜。VEECO MBE工具具有精确控制薄膜沉积速率和组成的能力,是发展新型半导体器件和纳米结构不可或缺的工具。VEECO MBE资产的主要特点之一是其先进的现场监测和控制能力。该模型配备了反射高能电子衍射(RHEED)、四极质谱和光谱椭圆偏振等各种诊断工具,能够实时监测沉积膜的生长过程和表征。这种原位监测能力使研究人员能够实时调整生长参数,以达到所需的膜性能和质量。VEECO MBE设备还提供精确的温度控制和样品处理能力,使研究人员能够生长具有高均匀性和控制膜厚度的外延膜。该系统可以容纳广泛的基材材料和尺寸,为各种研究应用提供了灵活性。此外,该设备还配备了先进的自动化和软件控制功能,可简化沉积过程并确保在不同的增长过程中实现可重现的结果。除了卓越的增长能力外,VEECO MBE机器还为薄膜的增长提供了一个清洁、无污染的环境。沉积室内保持的高真空条件最大限度地减少了杂质的存在,并确保了沉积膜的高纯度。这对于制造具有精确电子和光学特性的高质量半导体器件和纳米结构至关重要。综上所述,VEECO MBE工具是分子束外延研究的一种最先进的工具,为研究人员提供了无与伦比的对薄膜生长和原子尺度材料特性的控制。VEECO MBE资产具有先进的沉积源、现场监测工具、温度控制和自动化能力,是开发新型半导体材料和器件的通用平台,对其性能进行精确控制。它的可靠性、效率和多功能性使其成为从事材料科学、纳米技术和半导体物理学领域研究人员必不可少的工具。
还没有评论